AREPA型原液zeta電位分析儀設(shè)備詳情

　　Mass Applied Sciences (MAS) 公司推出的AREPA型原液zeta電位分析儀是一款創(chuàng)新的產(chǎn)品，專(zhuān)門(mén)用于測(cè)量和控制各種液體懸浮液中的顆粒大小分布及Zeta電位。這項(xiàng)技術(shù)特別適用于需要精確控制顆粒特性的工業(yè)領(lǐng)域，如半導(dǎo)體制造中的化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)泥漿、油墨、涂料、顏料、陶瓷材料、催化劑、乳液(包括石油制品)、藥物制劑以及食品和生物膠體等行業(yè)。

　　主要特點(diǎn)

　　非侵入式測(cè)量 AREPA型分析儀采用先進(jìn)的聲波傳感技術(shù)，能夠直接在生產(chǎn)線(xiàn)上對(duì)未經(jīng)稀釋的樣品進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)，無(wú)需取出樣品或添加任何試劑，從而避免了傳統(tǒng)方法中可能引入的誤差。

　　無(wú)需移動(dòng)部件 該設(shè)備設(shè)計(jì)時(shí)充分考慮到了工業(yè)應(yīng)用中的耐用性需求，采用了無(wú)活動(dòng)部件的設(shè)計(jì)理念，這意味著它可以全天候不間斷工作，減少了因機(jī)械故障導(dǎo)致的停機(jī)時(shí)間和維修成本。

　　廣泛的適用性 AREPA型分析儀適用于多種工業(yè)環(huán)境下的在線(xiàn)粒度測(cè)量，如化工、石油加工、醫(yī)藥生產(chǎn)等。無(wú)論是在半導(dǎo)體CMP工藝中的泥漿調(diào)配，還是在食品加工中的質(zhì)量控制，都能發(fā)揮重要作用。

　　經(jīng)濟(jì)高效 通過(guò)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)和調(diào)整生產(chǎn)工藝參數(shù)，該設(shè)備可以幫助企業(yè)優(yōu)化生產(chǎn)流程，提高成品質(zhì)量和一致性，降低原材料浪費(fèi)，從而實(shí)現(xiàn)更高的經(jīng)濟(jì)效益。

　　工作原理

　　AREPA型分析儀的核心技術(shù)在于其聲衰減光譜測(cè)量法。不同于傳統(tǒng)基于光學(xué)散射的方法，此設(shè)備利用聲波與液體中粒子相互作用產(chǎn)生的衰減效應(yīng)來(lái)推斷粒子大小及其分布情況。具體而言，通過(guò)發(fā)射聲波穿過(guò)待測(cè)樣品，并接收反射回來(lái)的信號(hào)，分析反射信號(hào)的變化規(guī)律，即可得到關(guān)于顆粒尺寸的信息。

　　此外，該設(shè)備還能進(jìn)一步測(cè)量顆粒表面的Zeta電位，這是衡量顆粒分散穩(wěn)定性的重要指標(biāo)之一。Zeta電位的高低反映了顆粒間靜電斥力的強(qiáng)弱，對(duì)于確保分散體系的長(zhǎng)期穩(wěn)定至關(guān)重要。

　　實(shí)際應(yīng)用案例

　　目前，AREPA型分析儀已被廣泛應(yīng)用于基礎(chǔ)研究和工業(yè)生產(chǎn)之中。無(wú)論是學(xué)術(shù)機(jī)構(gòu)還是工業(yè)企業(yè)，都能從中受益。例如，在半導(dǎo)體制造業(yè)中，精確控制CMP泥漿的顆粒特性對(duì)于保證晶圓表面的平整度至關(guān)重要;而在制藥行業(yè)，則可用于監(jiān)測(cè)藥物顆粒的大小，確保其符合制劑要求。

　　綜上所述，AREPA型原液zeta電位分析儀憑借其技術(shù)優(yōu)勢(shì)，在眾多行業(yè)中展現(xiàn)了廣闊的應(yīng)用前景。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展和完善，預(yù)計(jì)未來(lái)還將有更多創(chuàng)新功能被集成進(jìn)來(lái)，以滿(mǎn)足日益復(fù)雜的工業(yè)需求。